La procédure de filtration du liquide de polissage

Le CMP, ou polissage chimico-mécanique, utilise une technologie qui emploie divers équipements et consommables, notamment : machines à polir, pâtes à polir, tampons de polissage, équipements de nettoyage après CMP, équipements de contrôle de la fin du polissage et du processus, équipements de traitement et d'analyse des déchets, etc.

La solution de polissage CMP est un produit de polissage des métaux de haute pureté et à faible teneur en ions, obtenu par un procédé spécial à partir de poudre de silicium de haute pureté. Elle est largement utilisée pour le polissage de haute planarisation à l'échelle nanométrique de divers matériaux.

Objectif de la filtration :

pour éliminer les particules et les impuretés colloïdales ;

Exigences de filtration :

1. Faible teneur en substances solubles provenant du média filtrant, aucune perte de média.

2. Bonne capacité d'élimination des impuretés, longue durée de vie utile.

3. Débit élevé, résistance mécanique élevée

Configuration de filtration :

Procédure de filtration :